Canon анонсировала литографическую систему с высоким разрешением и большим размером экспозиционного поля для создания полнокадровых КМОП-матриц, устройств XR и прочих. Это устройство под названием FPA-5550iX позволит Canon укрепить своё лидерство в сфере производства полнокадровых матриц.
Литографическая система — это ключевой элемент оборудования для изготовления полупроводниковых чипов. Canon предлагает разнообразное оборудование для литографии полупроводников, которое отвечает техническим потребностям различных приложений помимо стандартной обработки полупроводниковых пластин.
Для создания полупроводниковых чипов необходимо выполнить экспонирование — этап, на котором на полупроводниковых основаниях, называемых «пластинами», формируются микроскопические схемы. Для этого используется оборудование для литографии полупроводников, которое проецирует пластины с помощью уменьшающих линз, воспроизводя схему исходной пластины, называемой «прицелом».
Создание полупроводниковых чипов в общих чертах состоит из трех этапов:
- Этап проектирования, на котором разрабатываются электрические схемы.
- Этап фронтальной обработки, на котором на полупроводниковую пластину с помощью облучения наносятся электронные схемы, такие как транзисторы и проводка.
- Этап обратной обработки, на котором пластины (с электронными схемами на них) делятся на отдельные чипы и монтируются.
В настоящий момент Canon анонсировала выпуск шаговой полупроводниковой литографической системы FPA-5550iX i-line для фронтальных процессов, которая обеспечивает большое поле экспозиции 50 x 50 мм и высокое разрешение 0.5 микрометра. Новая система позволяет одним экспонированием получать большое поле с высоким разрешением, что необходимо для производства полнокадровых КМОП-датчиков и других устройств, требующих более высокой точности.
Качество и стабильность производства проекционных линз, которые широко используются в системе, были повышены для удовлетворения большого спроса на литографические системы полупроводников. Система также может опционально менять длину волны инфракрасного излучения, которое проникает через кремний, что позволяет измерять выравнивание на обратной стороне пластины для датчиков с обратной подсветкой.
FPA-5550iX расширяет возможности Canon в области полнокадровых датчиков, особенно в области передовых датчиков с обратной засветкой. Эти продвинутые КМОП-датчики изображения могут быть использованы в новейших высококлассных камерах Canon.
Также напомню, что компания Canon, готовится анонсировать новую беззеркальную камеру начального уровня. Конкурировать Canon R200 будет с моделями Nikon Z30 и Sony ZV-E10.
Следите за новостями в наших социальных сетях: ВКонтакте, Telegram и YouTube
